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[1]张洪宇,李家宁,吴琦琦,等.口腔正畸中下颌磨牙后间隙的研究进展[J].天津医科大学学报,2023,29(05):571-574.
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口腔正畸中下颌磨牙后间隙的研究进展(PDF)
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《天津医科大学学报》[ISSN:1006-8147/CN:12-1259/R]

卷:
29卷
期数:
2023年05期
页码:
571-574
栏目:
综述
出版日期:
2023-09-20

文章信息/Info

Title:
-
文章编号:
1006-8147（2023）05-0571-04
作者:
张洪宇1; 2; 李家宁1; 吴琦琦1; 王 悦1
（1.天津医科大学口腔医院正畸科，天津 300070；2.天津市天津医院口腔科，天津 300299）
Author(s):
-
关键词:
下颌磨牙后间隙; 磨牙远移; 支抗; 第三磨牙; 锥形束计算机断层扫描
Keywords:
-
分类号:
R783.5
DOI:
-
文献标志码:
A
摘要:
利用下颌磨牙后间隙来解除牙列拥挤、调整咬合关系、改善面型是一种常见的正畸治疗方法。近年来的研究表明，影响下颌磨牙后间隙的因素众多，包括年龄、第三磨牙、垂直骨面型与矢状骨面型等。临床中可通过石膏模型、锥形束计算机断层扫描等途径对磨牙后间隙进行测量分析。合理利用下颌磨牙后间隙对避免支抗丢失、减小拔牙概率等具有重要意义，现就以上的研究进展作一综述，以期为临床医生是否可选择下颌磨牙远移的治疗方法提供参考。
Abstract:
-

参考文献/References:

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相似文献/References:

备注/Memo

备注/Memo:
作者简介 张洪宇（1997-），女，医师，硕士，研究方向：口腔医学；通信作者：王悦，E-mail：wangyue1@tmu.edu.cn。
更新日期/Last Update: 2023-09-25